极紫外光刻-极紫外光刻:创新浮现未来
行业前瞻 / 2024-03-09
文章 本文将对极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography,EUV)技术进行详细阐述。介绍了EUV技术的原理和优势。接着,从光源、掩膜、光刻机、光刻胶、控制系统和应用领域等六个方面对EUV技术进行了深入探讨。总结了EUV技术的发展前景和对未来的影响。 1. 极紫外光刻技术的原理和优势 极紫外光刻技术是一种先进的半导体制造技术,其原理是利用极紫外光(EUV)的短波长特性进行光刻。相比传统的光刻技术,EUV技术具有更高的分辨率、更小的线宽和更高的制程能力。EUV技术还